12:45 〜 13:00 [11p-Z12-2] 結晶成長過程における200 mm(8インチ)FZシリコンの面内抵抗率分布の数値解析 〇宮田 賢大1、韓 学峰2、柿本 浩一1,2 (1.九大院工、2.九大応力研)