09:45 〜 10:00 △ [9a-Z20-4] ミストCVD法によるLiTaO3基板上へのバッファ層を用いないrh-ITOエピタキシャル薄膜の成長とその評価 〇島添 和樹1、西中 浩之1、新田 悠汰1、伊藤 雄祐1、吉本 昌広1 (1.京都工繊大)