16:45 〜 17:00 △ [10p-Z05-17] 低温 PLD 合成 Ni1-xFexO(111)エピタキシャル薄膜の磁気抵抗評価 〇(M2)篠崎 佳晴1、金子 健太1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産技総研)