山崎方弘

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発表者・著者、共著者

2020年9月11日(金) 09:30 〜 11:15 Z05

一般セッション(口頭講演)
| 8 プラズマエレクトロニクス
| 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

[11a-Z05-1~7] 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

09:30 〜 09:45

[11a-Z05-1] 電子温度が異なるプラズマにおけるNH₃の生成レート

〇山崎方弘¹、佐々木先生浩一¹ (1.北大工)