一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
09:00 〜 09:15
〇(D)Iwan Dwi Antoro1、Takeshi Kawae1 (1.College of Sci. & Tech. Kanazawa Univ.)
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09:15 〜 09:30
〇川口 昂彦1、杉田 真由子1、青島 楓汰1、坂元 尚紀1、鈴木 久男1、脇谷 尚樹1 (1.静大院工)
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09:30 〜 09:45
津田 悠賀1、芦原 凜太郎1、河原 正美2、〇川江 健1 (1.金沢大理工、2.高純度化学研究所)
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09:45 〜 10:00
辻榮 朝香1、原 吉典1、柳瀬 隆2、島田 敏宏2、〇長浜 太郎2 (1.北大総化院、2.北大院工)
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10:00 〜 10:15
〇森田 廣1、平野 雅也1、別府 海渡1 (1.山理大工)
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10:30 〜 10:45
〇(M1)大西 寿仁1、奈良 安雄1 (1.兵庫県立大工)
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10:45 〜 11:00
〇米田 宏太朗1、吉田 将康1、神野 伊策1 (1.神戸大工)
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11:00 〜 11:15
〇小西 智貴1,2、番 貴彦1,2、山本 伸一1,2 (1.龍谷大理工、2.山本研)
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11:15 〜 11:30
〇(D)Liu Jiaqi1、Kazuya Tajima1、Muhammed Monirul Islam1、Shigeru Ikeda2、Takeaki Sakurai1 (1.Univ. Tsukuba、2.Konan Univ.)
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