一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
09:15 〜 09:30
〇常光 兼人1、佐野 諒1、渡辺 明2、尾上 弘晃1,3、寺川 光洋1,3 (1.慶大院理工、2.東北大、3.慶大理工)
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09:30 〜 09:45
〇野村 進1、水谷 梨乃1、中嶋 聖介1 (1.静大院工)
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09:45 〜 10:00
〇木村 諭紀雄1、中嶋 聖介1 (1.静大院工)
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10:00 〜 10:15
〇水本 善雄1、高島 祐介1、直井 美貴1、富田 卓朗1 (1.徳島大院先端)
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10:15 〜 10:30
〇野崎 健太1、田辺 綾乃2、早崎 芳夫1 (1.宇都宮大学オプティクス教育研究センター、2.シチズン時計)
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10:45 〜 11:00
〇谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
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11:00 〜 11:15
〇吉富 大1、高田 英行1、奈良崎 愛子1、鳥塚 健二1、小林 洋平2 (1.産総研、2.東大物性研)
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11:15 〜 11:30
〇高田 英行1、奈良崎 愛子1、吉富 大1、鳥塚 健二1、小林 洋平2 (1.産総研、2.東大物性研)
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11:30 〜 11:45
〇欠端 雅之1、屋代 英彦1、大矢根 綾子2、伊藤 敦夫3 (1.産総研 電子光基礎、2.産総研 ナノ材料、3.産総研 健康医工学)
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11:45 〜 12:00
〇小幡 孝太郎1、カバジェロ ルカス フランセスク1、杉岡 幸次1 (1.理研 光量子)
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