2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[10a-Z04-1~9] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2020年9月10日(木) 09:30 〜 12:00 Z04

牧山 剛三(住友電工)

10:30 〜 10:45

[10a-Z04-5] Ni/AlN ショットキーバリアダイオードの温度特性

廣木 正伸1、谷保 芳孝1、熊倉 一英1 (1.NTT物性研)

キーワード:AlN, ショットキー障壁

Ni/AlNショットキーバリアダイオード(SBDs)を作製し、その温度特性からショットキー障壁高さ(SBH)の評価を試みた。熱電子放出モデルによるI-V特性からのSBHは室温から673Kへの温度上昇に伴い1.8から2.8 eVへ増加した。また理想因子は1.88から1.15へ減少した。一方、C-V特性からのSBHは室温で3.2 eV程度であり、温度上昇しても一定であった。I-V特性からのSBHは、温度の逆数に比例していることから、障壁の不均一性の影響があると考えられる。以上のことから、Ni/AlNのSBHは2.8-3.2 eV程度と考えられる。