[10a-Z05-1~11] 6.4 薄膜新材料

[10a-Z05-9] 基板及びターゲット表面に水蒸気吹き付けした低温スパッタ成膜による酸化ニッケル薄膜の評価

〇片岡 政貴¹、阿部 良夫¹、川村 みどり¹、金 敬鎬¹、木場 隆之¹ (1.北見工大)

キーワード：エレクトロクロミック, 水酸化ニッケル

本研究では、水蒸気の吹き付け方向と基板温度による酸化ニッケル薄膜の堆積速度、組成、EC特性への影響の検討を行った。基板温度は-80°Cと-170°Cとし、水蒸気の吹き付け方向はターゲット側及び基板側とした。基板温度と水蒸気の吹き付け方向を変えることで異なる組成の酸化ニッケル薄膜を作製できることがわかった。