2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[10a-Z17-1~11] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2020年9月10日(木) 09:00 〜 12:00 Z17

岩長 祐伸(物材機構)、新ヶ谷 義隆(物材機構)

11:30 〜 11:45

[10a-Z17-10] 深紫外励起表面プラズモンによる光電子放出高効率化のためのナノ周期構造最適化

〇(D)森澤 洋文1、小野 篤史2、居波 渉2、川田 善正1,2 (1.静岡大光医工、2.静岡大電研)

キーワード:プラズモニクス, 光電変換, フォトニクス

本研究は深紫外励起表面プラズモンによる光電子放出高効率化のためのナノ周期構造最適化を目的とする.電磁場解析ではアレイ周期160 nm,ホール径およびディスク径86 nm,アルミニウム膜厚30 nm,ディスク-ホール間距離86 nmの時に波長266 nmの深紫外による表面プラズモンが強く励起することを示した.光電子放出効率のディスクホール間距離の依存性測定では,設計値に近い試料において増強度が13倍となることを実験により明らかにした.