2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.11 フォトニック構造・現象

[10a-Z18-1~10] 3.11 フォトニック構造・現象

2020年9月10日(木) 09:30 〜 12:15 Z18

石崎 賢司(京大)、角倉 久史(NTT)

12:00 〜 12:15

[10a-Z18-10] 厚膜Si熱輻射光源を用いた高出力密度、近接場熱光発電の設計

池田 圭佑1、井上 卓也1、鈴木 泰樹1、浅野 卓1、野田 進1 (1.京大院工)

キーワード:熱光発電

熱輻射光源と太陽電池を光の波長程度の距離まで近接させ発電を行う近接場熱光発電では、高出力・高効率な発電が可能である。この近接場熱光発電の出力密度の向上に向けて厚膜のSi熱輻射光源を利用した熱光発電システムの設計を行った。その結果、薄膜と比較して2.2倍の出力を得ることができることを数値計算により明らかにした。さらに、厚膜Si熱輻射光源の近接場熱光発電の実証に適した支持構造の設計を行った。