[10a-Z20-1~12] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[10a-Z20-10] Repeated bending durability characterization of oxide thin films toward flexible device applications

〇Toshihiro Kumatani¹, Kazuyori Oura¹, Hideo Wada¹, Masatoshi Koyama¹, Toshihiko Maemoto¹, Shigehiko Sasa¹ (1.Osaka Inst. of Tech.)

Keywords:Flexible devices, Oxide thin films, Repeated bending durability characterization

我々はこれまでフレキシブル基板上に酸化亜鉛（ZnO）薄膜を形成し，曲率半径を変化させたときの曲げ耐性評価やアルミニウムを添加した酸化亜鉛（AZO）の低温形成について研究を行ってきた．今回，フレキシブル基板上にバッファ層，ZnOおよびAZO薄膜を形成した様々な異なる積層構造を作製して繰り返し曲げ耐久試験を行い，表面状態の観察とともに抵抗値の変化について詳しく調べたのでそれらの結果について報告する．