[10a-Z20-1~12] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[10a-Z20-8] RFリアクティブマグネトロンスパッタ法を用いて成長させたNiOエピタキシャル薄膜のTEM観察

〇西本 啓介¹、杉山 睦^1,2 (1.東理大　理工、2.東理大　総研)

キーワード：酸化ニッケル, エピタキシャル, スパッタ