2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[10p-Z02-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

2020年9月10日(木) 13:00 〜 19:15 Z02

岡田 成仁(山口大)、石井 良太(京大)、室谷 英彰(徳山高専)

17:45 〜 18:00

[10p-Z02-17] 高温アニールスパッタAlN上にMOVPE成長させたAlNの陰極線蛍光評価(2)

〇(M2)粕谷 拓生1、嶋 紘平1、正直 花奈子2、上杉 謙次郎3、小島 一信1、上殿 明良5、三宅 秀人4、秩父 重英1 (1.東北大多元研、2.三重大院工、3.三重大地域戦略、4.三重大地域イノベ、5.筑波大数物)

キーワード:窒化アルミニウム, 陰極線蛍光

サファイア上にAlN薄膜をスパッタ成膜した後にface-to-face高温アニールを施し、その上にAlN膜をMOVPE成長させることによって形成したAlNテンプレートがAlGaN系深紫外発光素子用基板として注目されている。講演では、異なる条件で作製したスパッタAlN薄膜およびその上にMOVPE成長させたAlN薄膜のCL特性について報告する。