2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

[10p-Z08-1~10] 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

2020年9月10日(木) 12:30 〜 15:30 Z08

三輪 真嗣(東大)、安藤 裕一郎(京大)

13:00 〜 13:15

[10p-Z08-2] (CoFe/Pt/CoNi)2薄膜における磁気スキルミオンの安定化

大原 健太郎1、劉 小晰1 (1.信州大)

キーワード:スキルミオン

強磁性体と重金属からなる磁性多層膜において磁気スキルミオンなどのトポロジカル磁気構造は発現し、それがスピントロニクス研究として注目されている。磁気スキルミオンは実環境において安定していることが望まれる。本講演では異なる磁性層を挟む重金属の磁気スキルミオンの発現について注目し、(CoFe/Pt/CoNi)2の多層薄膜の膜厚を変化させ、室温ゼロ磁場における磁気スキルミオンの安定化について紹介する。