2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

[10p-Z08-1~10] 10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術

2020年9月10日(木) 12:30 〜 15:30 Z08

三輪 真嗣(東大)、安藤 裕一郎(京大)

13:45 〜 14:00

[10p-Z08-5] Spin Hall effect in non-equilibrium Cu-based binary alloys

Hiroto Masuda1、Rajkumar Modak2、Takeshi Seki1,2,3、Ken-ichi Uchida1,2,3、Yong Chang Lau1,3、Yuya Sakuraba2,4、Ryo Iguchi2、Koki Takanashi1,3,5 (1.IMR, Tohoku Univ.、2.NIMS、3.CSRN, Tohoku Univ.、4.JST PRESTO、5.CSIS, Tohoku Univ.)

キーワード:Spin Hall effect, Combinatorial technique, Non-equilibrium alloy

In this study, we comprehensively carried out a study on the spin Hall effect of non-equilibrium Cu-Ir and Cu-Bi binary alloys by exploiting a combinatorial technique based on the thermal imaging for a composition-spread film. We have found that the optimum Ir concentration for enhancing SHE of Cu-Ir is around 25 at.%. We evaluated spin Hall angle of Cu76Ir24 to be 6.29± 0.19 % using the harmonic Hall voltage measurements. On the other hand, the Cu-Bi binary alloys showed no remarkable SHE.