2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[10p-Z09-1~20] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2020年9月10日(木) 12:30 〜 18:00 Z09

嵯峨 幸一郎(ソニー)、森 伸也(阪大)、蓮沼 隆(筑波大)

12:45 〜 13:00

[10p-Z09-2] フッ化炭素系ブラシのアルカリ洗浄挙動

根本 悠平1、金井 隆宏1、濱田 崇広1、長嶋 裕次1、永原 聖万1 (1.芝メカ(株))

キーワード:半導体, フッ化炭素系ブラシ, アルカリ洗浄

耐薬性のあるフッ化炭素系ブラシの開発を行ったが、pH中性領域では、高い洗浄性能を発揮できたが、SC1等のアルカリ洗浄において、既存PVAブラシと比較すると著しく洗浄性能が低下する問題があった。そこで、フッ化炭素系ブラシの表面状態等の改良を行うことでアルカリ洗浄においてもPVAと同等の洗浄性能を達成できた。