2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[10p-Z17-1~19] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2020年9月10日(木) 13:00 〜 18:15 Z17

伊藤 民武(産総研)、久保 敦(筑波大)、梶川 浩太郎(東工大)

14:15 〜 14:30

[10p-Z17-6] VO2を用いたアクティブ誘電体メタサーフェスによる吸収率制御

高瀬 博章1、髙原 淳一1,2 (1.阪大院工、2.阪大フォトニクスセ)

キーワード:二酸化バナジウム, 誘電体メタサーフェス, アクティブメタサーフェス

VO2を用いたアクティブメタサーフェスは動的に光学特性を変化させることができる。近年VO2メタサーフェスの応用として吸収率を変化させて冷却効率を切り替える可変放射冷却素子の研究が行われている。本研究では誘電体メタサーフェスにVO2を用いて相転移により吸収率を制御し、透過性を持つ可変放射冷却素子を提案し、実験を行った。透過性を持つ放射冷却素子は窓材や太陽光発電の高効率化などへの応用が期待できる。