2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[10p-Z23-1~16] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2020年9月10日(木) 13:15 〜 18:00 Z23

川西 咲子(東北大)、野口 宗隆(三菱電機)、俵 武志(富士電機)

17:30 〜 17:45

[10p-Z23-15] 第一原理計算を用いた4H-SiC/SiO2界面での酸化過程の検討:ウェット酸化の影響

清水 紀志1、秋山 亨1、中村 浩次1、伊藤 智徳1、影島 博之2、植松 真司3、白石 賢二4 (1.三重大院工、2.島根大院自然科学、3.慶応大理工、4.名大未来研)

キーワード:SiC, 界面, 第一原理計算