PDF ダウンロード スケジュール 43 いいね! 2 コメント (1) 17:30 〜 17:45 [10p-Z23-15] 第一原理計算を用いた4H-SiC/SiO2界面での酸化過程の検討:ウェット酸化の影響 〇清水 紀志1、秋山 亨1、中村 浩次1、伊藤 智徳1、影島 博之2、植松 真司3、白石 賢二4 (1.三重大院工、2.島根大院自然科学、3.慶応大理工、4.名大未来研) キーワード:SiC, 界面, 第一原理計算