[11a-Z07-1~9] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[11a-Z07-8] BiVO₄の薄膜形成と光触媒の可視光応答評価

〇小西 智貴^1,2、番 貴彦^1,2、山本 伸一^1,2 (1.龍谷大理工、2.山本研)

キーワード：光触媒, バナジン酸ビスマス

高周波マグネトロンスパッタリング装置を用い、BiVO₄光触媒の薄膜化を目指した。スパッタ成膜を30_60_90_600 min.それぞれの条件で行った。アニール時間、温度でも条件振りを行った。また、スパッタ成膜の前工程、後工程にV₂O₅を基板に成膜する手順を加えた。結果として、600 min.成膜したものと、スパッタリングを行う前工程にV₂O₅を成膜したものから、BiVO₄の薄膜化と、光触媒反応を確認することが出来た。