[11a-Z10-1~10] 13.3 絶縁膜技術

[11a-Z10-2] 金属/Si構造に対する化学溶液酸化法の検証と評価

〇原田 和輝¹、志村 渓太¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.東京農工大)

キーワード：半導体, MOS-FET