[11a-Z13-1~10] 12.1 作製・構造制御

[11a-Z13-1] 蒸着法によるシルセスキオキサンの高分子薄膜作製および電気特性評価

〇小川 大和¹、黛 沙月¹、臼井 博明¹ (1.農工大院工)

キーワード：真空蒸着

シルセスキオキサン(POSS)は有機-無機ハイブリッド材料であり、有機的特徴と無機的な特徴を合わせ持つ。これを薄膜化することにより、耐久性に優れた絶縁性薄膜を形成できる可能性がある。そこで本研究ではアクリル基を官能基として持つPOSSを蒸着し、薄膜を作製した。また、製膜時に電子照射を行うことで高分子薄膜を形成できるとともに、耐熱性が向上することを見出した。