2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.3 層状物質

[11a-Z29-1~15] 17.3 層状物質

2020年9月11日(金) 08:30 〜 12:30 Z29

竹延 大志(名大)

10:00 〜 10:15

[11a-Z29-7] 基板表面ラフネスに依存したWS2単層膜における励起子-励起子消滅

梶野 祐人1、音 賢一1、山田 泰裕1 (1.千葉大院理)

キーワード:非線形緩和ダイナミクス, 低次元物質, 遷移金属ダイカルコゲナイド

本研究では、表面ラフネスの異なる様々な基板上にWS2単層膜を作製し、室温における発光緩和ダイナミクスの測定を行った。その結果、基板表面ラフネスに依存した実効励起子-励起子消滅(EEA)レート定数の大きな変化を見積もった。また、ポテンシャル変動を考慮した新しいEEAモデルを提案し、本質的なEEAレート定数を推定した。