2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[11p-Z01-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2020年9月11日(金) 12:30 〜 15:30 Z01

中村 芳明(阪大)、山口 憲司(量研機構)

15:15 〜 15:30

[11p-Z01-11] Geのピエゾ抵抗効果(Ⅰ)

松田 和典1、生田 壮馬1、中谷 友哉1、長岡 史郎2、筒井 一生3 (1.徳文大理工、2.香川高専電子、3.東工大)

キーワード:ゲルマニウム, ピエゾ抵抗効果

Geは融点が低く技術の開発と実験の材料としてはSiよりはるかに扱いやすいかったため,1955年ごろまで半導体の主な研究と開発に使われていたが,その後はSiの優位性が明確になり,Geは使われなくなった.現代になってもGeのピエゾ抵抗係数は60年ほど前に調べられたSmith の実験値の他には存在しない.本研究ではGeのピエゾ抵抗効果の実験を行い,新しく得られた知見について報告する.