2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[11p-Z02-1~19] 15.4 III-V族窒化物結晶

2020年9月11日(金) 13:00 〜 18:15 Z02

荒木 努(立命館大)、新田 州吾(名大)、谷川 智之(阪大)

15:30 〜 15:45

[11p-Z02-10] ナノパターンを有するスパッタ・アニール法AlNテンプレート上への
AlNのMOVPE成長

伊庭 由季乃1、正直 花奈子1、窪谷 茂幸2、上杉 謙次郎2、肖 世玉3、三宅 秀人3,1 (1.三重大院工、2.三重大地創戦略企、3.三重大院地域イノベ)

キーワード:有機金属気相成長, AlN, ナノパターン加工

我々は、サファイア基板にスパッタ堆積したAlN膜をface-to-face配置で高温アニール処理することにより低転位密度のAlNテンプレートを実現しており、この上にFFA Sp-AlNを形成することで、転位密度の低いAlN膜を実現している。しかし、ナノパターン上へのAlNのMOVPE成長条件がAlN膜の結晶性に与える影響は明らかになっていない。本研究では、ナノパターン加工FFA Sp-AlN上に異なるMOVPE成長条件でAlN成長を行い、結晶性に与える影響を調べた。