The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[11p-Z02-1~19] 15.4 III-V-group nitride crystals

Fri. Sep 11, 2020 1:00 PM - 6:15 PM Z02

Tsutomu Araki(Ritsumeikan Univ.), Shugo Nitta(Nagoya Univ.), Tomoyuki Tanikawa(Osaka Univ.)

4:15 PM - 4:30 PM

[11p-Z02-13] Strain Relaxation in AlGaN Grown on Annealed Sputtered AlN by Introduction of Superlattices

Takafumi Inamori1, Shoya Ishihara1, Tatsuya Shirato1, Shigeyuki Kuboya2, Kanako Shojiki1, Kenjiro Uesugi2, Hideto Miyake1,3 (1.Mie Univ. Grad. Sch. of Eng., 2.Mie Univ. SPORR., 3.Mie Univ. Grad. Sch. of RIS)

Keywords:MOVPE, strain relaxation, superlattices

圧縮歪みの強いAlNテンプレート上に歪み緩和したAlGaN層をMOVPE成長させることを目的として、テンプレートとAlGaN層の間にH2およびH2+N2混合の2種類のキャリアガスを用いてAlN/GaN超格子構造を成長させた。超格子構造の挿入によりどちらのキャリアガスでも歪み緩和を観察できた。また、超格子構造成長時にH2+N2混合のキャリアガスを用いることで、H2キャリアガスを用いて成長した試料と比べ、結晶性が改善され平坦な表面が得られた。