2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[11p-Z02-1~19] 15.4 III-V族窒化物結晶

2020年9月11日(金) 13:00 〜 18:15 Z02

荒木 努(立命館大)、新田 州吾(名大)、谷川 智之(阪大)

17:30 〜 17:45

[11p-Z02-17] ファセット成長による高組成InGaN下地層の検討

〇(M1)西 直矢1、河村 澪1、川村 洋史1、原田 裕也2、俵迫 勇也2、岡田 成仁1、只友 一行1 (1.山口大院創成、2.山口大工)

キーワード:InGaN, 下地層, MOVPE

可視光InGaN系LEDは発光波長が長波長になるにつれ、LEDの発光効率は低下する。InGaN下地層を用いることで下地層と発光層の格子定数差は小さくなりミスフィット転位の減少や QCSE の低減等が期待される。我々はこれまでに、In組成2~3%のInGaN下地層上にMQWを成長し長波長化に成功したLEDを作製してきた。そこで、更なる長波長化を目指しIn組成10%を目標とした高組成のInGaN下地層の作製を試みたので報告する。