2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[11p-Z02-1~19] 15.4 III-V族窒化物結晶

2020年9月11日(金) 13:00 〜 18:15 Z02

荒木 努(立命館大)、新田 州吾(名大)、谷川 智之(阪大)

14:15 〜 14:30

[11p-Z02-6] Growth of ultrathin InN films on Al-polar AlN and its application to field-effect transistors

ジョン ダヨン1、〇小林 篤1、上野 耕平1、藤岡 洋1 (1.東大生研)

キーワード:窒化物半導体