2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[11p-Z04-1~14] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2020年9月11日(金) 13:00 〜 16:45 Z04

加藤 正史(名工大)

13:15 〜 13:30

[11p-Z04-2] ラマン分光法によるGa2O3ショットキーバリアダイオードの自己発熱評価

万 澤欣1、高月 大輝1、林 家弘2、梁 剣波1、東脇 正高2、重川 直輝1 (1.大阪市立大工、2.情通機構)

キーワード:ワイドギャップ半導体材料, ラマン分光

β-Ga2O3は新規ワイドギャップ半導体材料として、パワーデバイスへの応用が期待されている。ただし、低い熱伝導率がβ-Ga2O3デバイスの特性を制限しているため、熱マネジメントが重要な課題になっている。本研究では顕微ラマン分光法を用いて通電中のβ-Ga2O3ショットキーバリアダイオード(SBD)の温度を評価し、計算結果と比較する。