The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[11p-Z05-1~15] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

Fri. Sep 11, 2020 1:30 PM - 5:30 PM Z05

Tachibana Kosuke(Oita Univ.), Shimizu Tetsuji(AIST)

1:30 PM - 1:45 PM

[11p-Z05-1] Optimization of OH radical production in direct-current atmospheric-pressure plasma using crossed gas flow

Hiroki Ohwada1, Naoki Shirai1, Koichi Sasaki1 (1.Hokkaido Univ.)

Keywords:OH radical, Atmospheric-pressure plasma

大気圧中で2つの微細ヘリウムガス流を交差させ直流電圧を印加すると、ガス流に沿ってグロー放電が生成する。このプラズマ源の下流部に水を設置して発光領域を接触させない照射を行うと、濃度が高いプラズマ処理水が生成されることがわかっている。プラズマ由来のラジカルは水処理や医療分野での応用が期待されているが、効率的に生成や照射を行う方法については十分に研究されていない。本研究では、交差ガス流を用いたプラズマを対象として、電流値およびガス流量を変化させた際のOH密度空間分布を調べ、最適なOH生成条件を検討した。