[11p-Z05-1~15] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[11p-Z05-15] Simulation of Irradiated Negative Ion Beam Deflected by Electromagnetic Field

〇Yuya Fujimoto¹, Tatsuya Tanaka¹, Haruhiko Himura¹, Akio Sanpei¹, Takashi Kanki² (1.Kyoto Inst.Tech., 2.JCG Acad.)

Keywords:Plasma Process, Specific Ion, beam sweeping

プラズマから特定イオンだけを均一なエネルギーを持つビームとして引き出し、これを電磁
場で制御しながら超薄膜の改質を行うというナノプロセス方式を開拓するために、実験装置
を開発している。本研究では、その実験装置を正確に模擬したプラットフォーム上でプラズ
マから引き出されたイオンビームの軌道シミュレーションを行い、ビーム集束・偏向用の電
磁場を変化させる事でイオンビームをターゲット上で掃引できることを示す。