[11p-Z05-1~15] 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

[11p-Z05-15] 電磁場によって偏向される照射負イオンビームのシミュレーション

〇藤本 佑弥¹、田中 達也¹、比村 治彦¹、三瓶 明希夫¹、神吉 隆司² (1.京工繊大電子、2.海保大)

キーワード：プラズマプロセス, 特定イオン, ビーム掃引

プラズマから特定イオンだけを均一なエネルギーを持つビームとして引き出し、これを電磁
場で制御しながら超薄膜の改質を行うというナノプロセス方式を開拓するために、実験装置
を開発している。本研究では、その実験装置を正確に模擬したプラットフォーム上でプラズ
マから引き出されたイオンビームの軌道シミュレーションを行い、ビーム集束・偏向用の電
磁場を変化させる事でイオンビームをターゲット上で掃引できることを示す。