[11p-Z05-1~15] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[11p-Z05-7] Decomposition of terephthalic acid by pulsed discharge plasma exposure (3) - Estimation of OH production rate -

〇Kazuhiro Takahashi¹, Kohki Satoh¹ (1.Muroran I. T.)

Keywords:terephthalic acid, OH radical, Plasma exposed water

テレフタル酸(TA)水溶液に水上パルス放電を照射したときの副生成物を液体クロマトグラフ質量分析により調査し，推定した反応過程を基に０次元モデルで反応速度式を計算してOHラジカルの生成レートを推定した。OHラジカルの生成レートは14.9 nmol/sとなり，従来の方法であるヒドロキシテレフタル酸の生成量とTAがOHラジカルを捕捉する割合から求める方法などと比べて高い値となった。