2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[11p-Z07-1~14] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2020年9月11日(金) 13:00 〜 16:45 Z07

島 久(産総研)、加藤 誠一(物質・材料研究機構)

13:00 〜 13:15

[11p-Z07-1] 熱流設計に基づく抵抗変化メモリ(ReRAM)のフィラメントデザイン

〇(M2)佐々木 悠太1、木下 健太郎1 (1.東理大理)

キーワード:抵抗変化型メモリ, 有限要素法シミュレーション, 熱伝導度

抵抗変化型メモリReRAMのUnipolar 動作について, 酸素欠陥(Vo)の電界ドリフトを用いて説明した報告もあるが, 電界ドリフトが一方向に働くことを考慮すると, Vo分布の偏析を避けられず, 高い繰り返し耐性と矛盾するように見える. 本研究では, 電界の方向に依存しない拡散力, 濃度勾配拡散(Fick 拡散)と温度勾配拡散(Soret 拡散)を考慮したVo 拡散シミュレーションを実施した.