2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[11p-Z07-1~14] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2020年9月11日(金) 13:00 〜 16:45 Z07

島 久(産総研)、加藤 誠一(物質・材料研究機構)

15:45 〜 16:00

[11p-Z07-11] Ir/Ta2O5スパッタ膜の熱刺激電流測定 (II)

三沢 源人1、島 久1、内藤 泰久1、秋永 広幸1 (1.産総研DTech)

キーワード:酸化タンタル, 熱刺激電流, トラップ準位

Ta2O5は誘電体として広く用いられてきたが、抵抗変化素子としても多様な利用法が実用に供されつつある。エレクトロニクスデバイスとして用いる際に、トラップ準位を定量的に評価することは重要である。デバイス動作の理解やモデリングのためにはこの情報が欠かせない。我々は、光励起による熱刺激電流TSCを、複数の昇温速度で測定し、Ta2O5スパッタ膜についてトラップ深さを求められることを報告した。今回は、その詳細な解析結果を報告する。