[11p-Z18-1~10] 3.11 フォトニック構造・現象

△ [11p-Z18-7] 深い埋め込み空孔を有する1.3 μm帯フォトニック結晶面発光レーザ

〇伊藤 友樹^1,2、河野 直哉^1,2、藤原 直樹^1,2、八木 英樹¹、勝山 智和¹、北村 崇光¹、藤井 康祐¹、江川 満¹、小路 元¹、井上 卓也²、メーナカ デゾイサ²、石崎 賢司²、野田 進² (1.住友電工、2.京大院工)

キーワード：フォトニック結晶レーザ

InP系材料による埋込再成長によりフォトニック結晶レーザを作製し、1.3μm帯にて室温パルス発振に成功した。フォトニック結晶(PC)形成時の活性層へのダメージ回避とPC層への強い光閉込めのために、PC上部に活性層を成長するデバイス構造とし、PC空孔の最上部の横方向成長の促進により、均一かつ深い空孔形成に成功した。その結果、電極直径=150μmのデバイスで、閾値電流=110mA(閾値電流密度=0.64 kA/cm²)で単一モード発振が得られた。