[8a-Z05-1~11] 6.2 カーボン系薄膜

[8a-Z05-5] DLCへの原子状水素照射とXAS法による表面のその場観察

〇新部 正人¹、部家 彰²、赤坂 大樹³、神田 一浩¹ (1.兵庫県大高度研、2.兵庫県大工、3.東工大工)

キーワード：原子状水素, 汚染物除去, 軟Ｘ線吸収分光

原子状水素（AH）は、それ自身ラジカルとして反応性が高く、かつ再結合時に4.5 eVのエネルギーを放出することから、還元反応による表面処理・クリーニングへの利用が期待される。本研究では軟X線の吸収分光（XAS）装置にAH発生器を取り付け、主にDLC材料について、AHを照射した前後での表面をin-situで吸収スペクトル測定することを試みた。