2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[8a-Z05-1~11] 6.2 カーボン系薄膜

2020年9月8日(火) 09:00 〜 12:00 Z05

赤坂 大樹(東工大)、大越 康晴(電機大)

11:15 〜 11:30

[8a-Z05-9] 化学気相成長法により成膜した窒素含有非晶質炭素薄膜の電気特性におけるプラズマ周波数の影響

〇(M1)河上 瑛彦1、本間 章彦1、平栗 健二1、大越 康晴1 (1.電大)

キーワード:非晶質炭素薄膜

ダイヤモンド状炭素 (DLC: Diamond-like Carbon film) 膜は,sp2構造とsp3構造が混在する非晶質炭素膜の一つである.DLCは不純物ドープにより物性が変化することが知られ,シリコンドープDLC(Si-DLC)の基板との密着性や耐酸化性,添加物との反応性の向上などが報告されている.また,窒素ドープDLC(N-DLC)は,導電性向上特性を生かした電極材料などへの応用が期待されているが,実用化には抵抗率の高さが課題である.そこで本研究では,プラズマ周波数におけるN-DLCの電気特性の制御を目的として,13.56 MHz(RF:Radio Frequency)と29.6 kHz(LF:Low Frequency)電源を用いて成膜したN-DLCについて,電気特性の比較検討を行う.