2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 第3世代異種材料接合と膜成長自在制御:界面ナノ・キベルネテス(舵手)

[8a-Z06-1~5] 第3世代異種材料接合と膜成長自在制御:界面ナノ・キベルネテス(舵手)

2020年9月8日(火) 09:00 〜 11:30 Z06

川原村 敏幸(高知工科大)、西川 博昭(近畿大)

09:05 〜 09:45

[8a-Z06-2] 表面活性化による常温接合

須賀 唯知1 (1.明星大学)

キーワード:接合, 表面活性化, 海面

表面活性化による常温接合の現状と接合メカニズムを概説する。イオン衝撃による標準表面活性化接合が金属やSiの常温接合に有効なのに対し、ナノ密着層を導入した拡張表面活性化接合によって、ガラスや化合物半導体、高分子フィルムなどの常温接合も可能となる。また大気圧・雰囲気中での表面活性化接合が検討されている。最近の事例として、最高の接合界面熱伝導率を実現したGaNとダイヤモンドとの常温接合を示した。また本手法のお将来への展望として、極低温接合を提案する。