2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[8a-Z07-1~8] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2020年9月8日(火) 09:15 〜 11:30 Z07

塚﨑 敦(東北大)

11:15 〜 11:30

[8a-Z07-8] VO2極薄膜における電子・結晶構造の膜厚依存性

志賀 大亮1,2、以理 楊1、長谷川 直人1、神田 龍彦1、徳永 凌祐1、吉松 公平1、湯川 龍2、北村 未歩2、堀場 弘司2、組頭 広志1,2 (1.東北大多元研、2.KEK物構研)

キーワード:強相関電子系, 金属-絶縁体転移, 光電子分光

VO2は室温付近で構造相転移を伴った急激な金属-絶縁体転移を示すことから、強相関デバイスとしての応用が期待されている。今回我々は、in situ放射光電子分光測定により、膜厚を制御したVO2/TiO2(001)薄膜の電子・結晶構造評価を行った。その結果、VO2薄膜は極薄極限ではルチル型構造を維持したモット絶縁体であることが明らかになった。