The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

22 Joint Session M "Phonon Engineering" » 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

[8a-Z09-1~10] 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

Tue. Sep 8, 2020 9:00 AM - 11:45 AM Z09

Yoshiaki Nakamura(Osaka Univ.), Junichiro Shiomi(Univ. of Tokyo)

9:45 AM - 10:00 AM

[8a-Z09-4] Evaluation of Phonon Dispersion for Low Energy Side Phonon Spectrum of Bulk SiGe by Inelastic X-ray Scattering

Ryo Yokogawa1,2, Haruki Takeuchi1, Yasutomo Arai3, Ichiro Yonenaga4, Sylvia Yuk Yee Chung5, Motohiro Tomita5, Hiroshi Uchiyama6, Takanobu Watanabe5, Atsushi Ogura1,2 (1.Meiji Univ., 2.MREL, 3.JAXA, 4.Tohoku Univ., 5.Waseda Univ., 6.JASRI)

Keywords:SiGe, Phonon dispersion, Inelastic X-ray scattering

SiGeは低熱伝導率を有することから、熱電発電デバイスへの応用が期待されている。熱伝導率低下のメカニズムを解明するうえでフォノン分散の理解が極めて重要となるがフォノン散乱機構は複雑であり不明瞭な点が多い。我々はX線非弾性散乱法を用いて、SiGeフォノン分散の低エネルギー側に新たなフォノンスペクトルを発見し、フォノン分散および熱伝導率の関係について詳細に検討したので、その結果について報告する。