The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

22 Joint Session M "Phonon Engineering" » 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

[8a-Z09-1~10] 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

Tue. Sep 8, 2020 9:00 AM - 11:45 AM Z09

Yoshiaki Nakamura(Osaka Univ.), Junichiro Shiomi(Univ. of Tokyo)

10:00 AM - 10:15 AM

[8a-Z09-5] Effect of Si-Nanopillar Spacing on Thermal Properties

Tomoki Harada1, Yuki Arata1, Daisuke Ohori2,3, Seiji Samukawa3, Tetsuo Ikari1, Atsuhiko Fukuyama1 (1.Univ. of Miyazaki, 2.NCTU, 3.IFS Tohoku Univ.)

Keywords:Silicon nanopillars, Thermoelectric, Piezoelectric Photo-Thermal Spectroscopy

廃熱を回収し有効利用する技術として安価なSi系材料による熱電変換が注目されている。無次元性能指数の向上のため、ナノ構造により熱伝導率を減少させる試みがある。我々は中性粒子ビームエッチングによりSiナノピラー(NP)をSiGeで埋め込んだ複合膜を作製した。本研究では、NP間隔40と60nmの2試料を用意し、圧電素子光熱変換法を適用することでNP間隔による熱特性変化を議論した。