[8a-Z19-1~11] 3.5 レーザー装置・材料

[8a-Z19-4] 高出力超短パルスレーザーのためのNd: CaF₂透明セラミックスの開発

〇(M2)横関 海翔¹、藤岡 加奈¹、時田 茂樹¹、荻野 純平¹、北島 将太朗¹、宮永 憲明^1,2、河仲 準二¹ (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研)

キーワード：セラミックス, レーザー材料

NdCaF₂は蛍光スペクトルの半値全幅が数十 nmと広いことが報告されておりサブピコ秒増幅が可能な高出力超短パルスレーザー用の媒質として期待されている。しかし、Nd: CaF₂ではCa²⁺とNd³⁺の価数の違いに起因するNd³⁺のクラスター化が消光の原因になることが知られており、クラスター化の抑制が重要な課題となっている。本研究では、高効率レーザー発振が可能なNd: CaF₂透明セラミックスの開発を目指し、クラスター化の抑制と透明化の研究を行っている。