2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

22 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」 » 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

[8p-Z09-1~18] 22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」

2020年9月8日(火) 13:00 〜 18:30 Z09

渡邉 孝信(早大)、山本 貴博(東理大)、森 孝雄(物材機構)、宮崎 康次(九工大)

15:15 〜 15:30

[8p-Z09-8] Mo/HfO2/Mo三層薄膜における熱輸送特性

山下 雄一郎1 (1.産総研)

キーワード:ナノスケール熱輸送, 時間領域パルス光加熱サーモリフレクタンス法, 薄膜熱物性

金属/対象薄膜/金属の3層構造試料では、中間層厚さがおよそ5~10 nmを境に界面熱抵抗が消失するかのように試料全熱抵抗が減少する特異な熱輸送が現れる。本報では、裏面加熱-表面測温型の時間領域パルス光加熱サーモリフレクタンス法を用いて、Mo薄膜で挟まれた高誘電率材であるHfO2に対して特異な熱輸送の発現開始厚さを調べた。