2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[8p-Z17-1~12] 6.1 強誘電体薄膜

2020年9月8日(火) 13:00 〜 16:15 Z17

山田 智明(名大)、中嶋 宇史(東理大)

14:00 〜 14:15

[8p-Z17-5] 水熱合成法を用いた(Bi,K)TiO3薄膜の低温製膜

〇(PC)伊東 良晴1、舘山 明紀1、黄 宇1、窪田 るりか1、黒澤 実1、舟窪 浩1 (1.東工大)

キーワード:水熱合成, 非鉛強誘電体, 薄膜

水熱合成法を用いた薄膜合成法は、近年、非鉛強誘電体材料にとって有用なプロセスである。これは低温プロセスを利用した揮発元素の制御および他段階の相転移温度以下のプロセスによるクラック生成を妨げることが可能だからである。また、このような低温合成プロセスは、ポリマーシートなどのフレキシブル基材上への製膜の可能性が期待される。
本発表では、我々がこれまでに水熱合成法を用いて作製に成功した(Bi,K)TiO3薄膜について、100℃までの低温合成の可能性を明らかにした結果を報告する。