[8p-Z18-1~16] 9.4 Thermoelectric conversion

[8p-Z18-7] Development of SiGe thin film containing epitaxial CoSi2 nanodots for enhancing thermoelectric power factor

〇Ryoya Hosoda¹, Kosei Mizuta¹, Takahumi Ishibe¹, Md. Mahfuz Alam², Kentarou Sawano², Yoshiaki Nakamura¹ (1.Osaka Univ., 2.Tokyo City Univ.)

Keywords:silicide, nano composite, thermoelectric material

我々は、環境低負荷な熱電材料としてSi系材料に注目しており、これまでSi薄膜中にエピタキシャルGeナノドットを導入し、電気伝導率を維持しつつ熱伝導率を下げることに成功してきた。しかし、出力因子、熱伝導率ともに不十分な値に留まる。本研究では、サーマルマネージメントによる出力因子増大法に着眼し、エピタキシャルCoSi2ナノドットを含有したSiGe薄膜の作製技術開発及びその出力因子評価を目的とする。