2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[8p-Z26-1~23] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2020年9月8日(火) 13:00 〜 19:30 Z26

本間 剛(長岡技科大)、斎藤 全(愛媛大)、後藤 民浩(群馬大)、吉田 憲充(岐阜大)

18:45 〜 19:00

[8p-Z26-21] シリカガラスのX線誘起光吸収帯強度のX線浸透深さ依存性

南保 健斗1、谷 和磨1、春木 晶尋1、葛生 伸1、堀越 秀春2 (1.福井大工、2.東ソー・エスジーエム)

キーワード:シリカガラス, X線

シリカガラスにX線を照射した際に生じる誘起光吸収帯を調べることでX線照射によって生成された欠陥構造の解明を行っている。本研究では, シリカガラスの薄片を重ねてX線を照射し, 各試料片の吸収スペクトルを測定することで,X線誘起光吸収帯特性の表面からの距離依存性を調べた。