[8p-Z26-1~23] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[8p-Z26-23] Ｘ線回折より得られた仮想温度の異なるSiO₂ガラスの構造因子

〇正井 博和¹、小原 真司²、小野寺 陽平³、是枝 聡肇⁴、藤井 康裕⁴、斎藤 和也⁵ (1.産総研、2.物材機構、3.京大、4.立命館大、5.豊田工大)

キーワード：ガラス, 仮想温度