2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

[8p-Z27-1~17] 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

2020年9月8日(火) 13:00 〜 17:30 Z27

日高 睦夫(産総研)、山梨 裕希(横国大)

13:15 〜 13:30

[8p-Z27-2] 中性粒子ビームによるNb表面酸化膜組成がQ値に与える影響

〇(M1)紺野 太壱1、大堀 大介1、日高 睦夫3、遠藤 和彦3、向井 寛人4、蔡 兆申4、寒川 誠二1,2,3 (1.東北大流体研、2.東北大AIMR、3.産総研、4.東理大)

キーワード:量子ビット, 超伝導, ニオブ

本研究では中性粒子ビームを用いて、Nb表面の酸化膜組成を変化させて共振器のQ値への影響を調べた。Cl2, 16 Wの場合、Nb2O5が減少しサブオキサイドが増加し、SF6, 0 Wではサブオキサイドは増加しなかった。そこで、Cl2, 16 WとSF6, 0 Wの条件で共振器を作製した。後者は前者と比べおよそ10倍高いQ値を得た。以上より、高いQ値の超伝導共振器にはエッチング処理による表面酸化膜組成の制御が重要であることが分かった。