2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[9a-Z05-1~8] 6.4 薄膜新材料

2020年9月9日(水) 09:15 〜 11:15 Z05

藤原 宏平(東北大)、鈴木 基史(京大)

09:45 〜 10:00

[9a-Z05-3] Bi2WO6 epitaxy-deterministic influence of oxygen vacancies

〇(P)Saikat Das1、Yusuke Kozuka1、Tadakatsu Ohkubo1、Shinya Kasai1,2 (1.NIMS、2.JST-PRESTO)

キーワード:Ferroelectric, Oxide thin film, Aurivillius, Oxygen vacancies

We report a peculiar epitaxial growth behaviour of ferroelectric Bi2WO6 thin film, which sensitively depends on the residual oxygen vacancies present on oxide SrTiO3 substrates.