2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[9a-Z18-1~10] 3.7 レーザープロセシング

2020年9月9日(水) 09:15 〜 12:00 Z18

中村 大輔(九大)、溝尻 瑞枝(長岡技科大)

09:30 〜 09:45

[9a-Z18-2] フェムト秒レーザー照射の単一プロセスによるシリカゲル内部へのAgナノ粒子析出

野村 進1、水谷 梨乃1、中嶋 聖介1 (1.静大院工)

キーワード:局在表面プラズモン共鳴